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日立離子研磨裝置I

產(chǎn)品時(shí)間：2024-06-02

訪問次數(shù)：1032

簡要描述：

日立離子研磨裝置I
混合模式：兩種研磨配置
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察
平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性
高效：提高加工效率
與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間
(參考加工速度：硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時(shí)間減少了66%)

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日立離子研磨裝置IM4000 II



日立離子研磨裝置IM4000 II 具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！

  • 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
    斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
    平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。

  • 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的高通量能提高加工效率：
        與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間。
    （參考加工速率：硅元素為300微米/小時(shí) — 加工時(shí)間減少了66%。

  • 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的可拆卸樣品臺(tái)裝置：

    為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣，可將樣品臺(tái)裝置拆卸。


特點(diǎn)


  • 混合模式：兩種研磨配置
    斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察
    平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性

  • 高效：提高加工效率
    與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間
    (參考加工速度：硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時(shí)間減少了66%)

  • 可拆卸式樣品臺(tái)：
    為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨，樣品臺(tái)設(shè)計(jì)為可拆卸型

日立科學(xué)儀器（北京）有限公司為您提供日立離子研磨裝置IM4000 II的參數(shù)、價(jià)格、型號(hào)、原理等信息，日立離子研磨裝置IM4000 II產(chǎn)地為日本、品牌為日立，型號(hào)為IM4000 II，價(jià)格為面議，更多相關(guān)信息可，公司客服電話7*24小時(shí)為您服務(wù)


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